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Tascon

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Tascon GmbH Heisenbergstr. 15 48149 Münster Kontakt: Dr. Reinhard Kersting EMail: reinhard.kersting@tascon-gmbh.de

Über das Unternehmen

Gegründet 1997 als Prüflabor für Flugzeitmassenspektrometrie (Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry, ToF-SIMS) zählt Tascon heute zu den international führenden Labors für diese Technologie, deren Anwendung wir ständig weiterentwickeln. Sie finden bei uns eine weltweit einzigartige Kombination von State-of-the-Art Geräten und Anwendungs-Know-How. Ende 2008 haben wir unsere Aktivitäten auf das Gebiet der niederenergetischen Ionenstreuung (Low Energy Ion Scattering, LEIS) erweitert und im Sommer 2009 in unserem Labor ein Gerät zur optischen Charakerisierung der Oberflächentopographie (Weißlichtinterferometrie, konfokale Mikroskopie) in Betrieb genommen. Zusammen mit der seit Anfang 2010 verfügbaren Photoelektronenspektroskopie (X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS) sind wir in der Lage, Oberflächen mit variabler Informationstiefe umfassend zu charakterisieren. Falls für die analytische Aufgabenstellung notwendig und sinnvoll, stehen Ihnen aber auch weitere oberflächenanalytische und nanoanalytische Techniken zur Verfügung, die wir z.T. in Kooperation mit Partnerlaboratorien anbieten.

Zur Zeit kümmern sich in unserem Labor 15 hoch qualifizierte Mitarbeiter, davon 10 mit Universitätsabschluss, um die analytischen Fragestellungen unserer Kunden. Ein breiter Erfahrungshintergrund ist uns dabei wichtig. Unsere Mitarbeiter haben Abschlüsse in Physik, Chemie, chemischer Verfahrenstechnik, Biologie, Biochemie und Geologie. Sie bilden sich ständig fort und sorgen für stets aktuelles Firmen-Know-How, nicht nur, was analytische Techniken angeht, sondern auch im Hinblick auf Produktionstechnologien.

Die tascon GmbH ist ein konzernunabhängiges Unternehmen in Privatbesitz.

Aktuelle Pressemitteilungen von Tascon
Bild: Low Energy Ion Scattering (LEIS): Werkzeug zur Charakterisierung dünner metallischer SchichtenBild: Low Energy Ion Scattering (LEIS): Werkzeug zur Charakterisierung dünner metallischer Schichten
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Low Energy Ion Scattering (LEIS): Werkzeug zur Charakterisierung dünner metallischer Schichten

Die Miniaturisierung integrierter Schaltkreise erfordert die Deposition immer dünnerer Metallschichten mit typischen Dicken von wenigen Nanometern. Die hinsichtlich der Schichtgeschlossenheit und –homogenität geforderten Standards bringen etablierte Depositionstechniken wie die CVD oder PVD (chemical bzw. physical vapour deposition) an ihre Grenzen. Daher werden Diffusionsbarrieren und Isolatorschichten („high-k“) zunehmend durch das Verfahren der „Atomic Layer Deposition“ (ALD) erzeugt. Unabhängig von der Depositionsmethode hat sich die nie…
07.11.2011
Bild: Einführungsseminar in die Flugzeitsekundärionenmassenspektrometrie (ToF-SIMS) während der Tagung SIMS EuropeBild: Einführungsseminar in die Flugzeitsekundärionenmassenspektrometrie (ToF-SIMS) während der Tagung SIMS Europe
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Einführungsseminar in die Flugzeitsekundärionenmassenspektrometrie (ToF-SIMS) während der Tagung SIMS Europe

Die Flugzeitsekundärionenmassenspektrometrie (engl.: Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry (ToF-SIMS)) ist eines der leistungsfähigsten Analyseverfahren in der modernen Oberflächenanalytik. Die ToF-SIMS liefert molekulare und atomare Informationen über die Zusammensetzung der obersten Monolagen einer Festkörperoberfläche mit Empfindlichkeiten bis in den ppb-Bereich. Durch den Einsatz geeigneter Analysebedingungen können in modernen Geräten zudem Lateralauflösungen von 100 nm erreicht werden, so dass das Verfahren auch im Bereich der …
14.09.2010
Bild: Oberflächen unter der chemischen Lupe: Neues XPS Gerät im Prüflabor der Tascon am Standort SulzbachBild: Oberflächen unter der chemischen Lupe: Neues XPS Gerät im Prüflabor der Tascon am Standort Sulzbach
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Oberflächen unter der chemischen Lupe: Neues XPS Gerät im Prüflabor der Tascon am Standort Sulzbach

Die Tascon GmbH ist ein zertifiziertes und akkreditiertes Prüflabor, das seinen Kunden seit 1997 Beratung, Seminare und analytische Dienstleistungen rund um die Oberfläche anbietet. An unserem Stammsitz in Münster betreiben wir das weltweit größte ToF-SIMS und LEIS Schwerpunktlabor. Zudem verfügen wir über weitere Techniken wie optische Profilometrie und Mikroskopie, REM/EDX, Infrarotspektroskopie, AFM, STM sowie diverse präparative Methoden. Unsere Kunden nutzen diesen Service zur Bearbeitung aktueller Fragestellungen rund um die Entwicklung…
25.02.2010
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