Pressemitteilungen zu Vakuum

… gibt es allerdings gravierende Unterschiede: EUV-Licht konnte bisher nur in großen Elektronenspeicherringen erzeugt werden. Die kurzwellige EUV-Strahlung wird von allen Materialien, selbst von Luft, absorbiert. Daher muss der gesamte Belichtungsprozess im Vakuum stattfinden. Außerdem können nicht wie bisher transparente Masken und Linsen eingesetzt werden. EUV-Licht kann besonders effizient über hochreflektierende Spiegeloptiken geführt werden. »Wir hatten anspruchsvolle technologische Herausforderungen zulösen und mußten völlig neue leistungsfähige …

… geradezu prädestiniert. Branchenexperten und Marktkenner erwarten, dass dieser bisherige Nischenmarkt in den nächsten 5 Jahren vor einem regelrechten Boom steht.   Über PVA TePla Die PVA TePla AG ist aus der Verschmelzung der TePla AG mit der PVA Vakuum-Anlagenbau GmbH hervorgegangen und ist seit Jahrzehnten etablierter Anbieter für Systeme und Anlagen zur umweltfreundlichen Erzeugung und Bearbeitung hochwertiger Industrie-Werkstoffe. Als Vakuum-Spezialist für Hochtemperatur und Plasma ist PVA TePla im Weltmarkt führend bei Hartmetall-Sinteranlagen, …

… der Bezeichnung EUV (Extreme Ultra Violet) hohe Bedeutung bei der Herstellung von Mikrochips erlangen. Die Carl Zeiss SMT AG, weltweit führend in der Entwicklung von EUV-Lithografie-Systemen, wird die Messeinrichtung im Rahmen einer Forschungskooperation stark nutzen. In dem Reflektometer wird unter Vakuum der Reflexionsgrad (also das Verhältnis von einfallender und reflektierter Strahlung) von Spiegeln mit bis zu 0,5 m Durchmesser und 50 kg Gewicht gemessen. Mit einer Länge von zwei Metern und einem Durchmesser von ebenfalls zwei Metern, ist dies …