(openPR) Am Berliner Elektronenspeicherring BESSY II hat die Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB) ein weltweit einzigartiges Reflektometer in Betrieb genommen. Die Carl Zeiss SMT AG hat sich mit rund 150.000 Euro an den Kosten der vom BMWi besonders geförderten Messeinrichtung beteiligt. Das Reflektometer dient zur Messung des Reflexionsgrades von Spiegeln für weiche Röntgenstrahlung. Diese Strahlung wird in Zukunft unter der Bezeichnung EUV (Extreme Ultra Violet) hohe Bedeutung bei der Herstellung von Mikrochips erlangen. Die Carl Zeiss SMT AG, weltweit führend in der Entwicklung von EUV-Lithografie-Systemen, wird die Messeinrichtung im Rahmen einer Forschungskooperation stark nutzen.
In dem Reflektometer wird unter Vakuum der Reflexionsgrad (also das Verhältnis von einfallender und reflektierter Strahlung) von Spiegeln mit bis zu 0,5 m Durchmesser und 50 kg Gewicht gemessen. Mit einer Länge von zwei Metern und einem Durchmesser von ebenfalls zwei Metern, ist dies die größte derartige Messkammer weltweit. Gerhard Ulm, der Leiter des PTB-Labors bei BESSY II, betonte anlässlich der Inbetriebnahme des Reflektometers: 6Mit dieser einzigartigen Messeinrichtung wird die PTB die in Deutschland weit fortgeschrittene Entwicklung von Spiegeln und Masken für die EUV-Lithographie wesentlich unterstützen können &.
Die Carl Zeiss SMT AG wird das Reflektometer nutzen, um den Reflexionsgrad von Spiegeln für die EUV-Lithographie bei 13,5 nm Wellenlänge zu messen. Diese Technologie wird gegen Ende des Jahrzehnts die Herstellung von Mikrochips mit bis heute ungeahnten Eigenschaften ermöglichen. Entscheidend dafür ist der Durchmesser der einzelnen Strukturen, aus denen die Leiterbahnen eines Chips bestehen. Mit den derzeit neuesten lichtoptischen Herstellverfahren können Leiterbahnen mit einer Strukturbreite von bis zu 100 nm und knapp darunter hergestellt werden. Die EUV-Lithographie soll diese Grenze auf 35 nm und darunter ausweiten. Zum Vergleich: ein menschliches Haar ist mit einer durchschnittlichen Breite von 0,05 mm mehr als tausend mal dicker.
Bildunterschrift:
Mechanik des EUV-Reflektometers. Im Hintergrund ist die geöffnete Tür des Vakuumtanks mit 2 m Durchmesser zu erkennen. Im Vordergrund steht die Mechanik auf einem Montagegestell. Die Probenaufnahme steht auf dem Bild waagerecht (entspricht streifendem Strahlungseinfall), der Empfängerarm ist unter etwa 90° nach oben gestellt. Der Abstand des Empfängers zur Drehachse beträgt in dieser Stellung 550 mm.
Carl Zeiss ist eine weltweit führende internationale Unternehmensgruppe der optischen und opto-elektronischen Industrie. Der Hauptsitz des Unternehmens ist in Oberkochen, Baden-Württemberg. Carl Zeiss bietet technologisch hochwertige Lösungen für die Bereiche Semiconductor und Optoelectronic Technology, Life Sciences und Health Care, Eye Care, Industrial Solutions sowie anspruchsvolle Produkte im Consumer- und Sports Optics-Bereich.
Das Unternehmen ist in mehr als 30 Ländern direkt vertreten und besitzt Produktionsstätten in Europa, Nordamerika und Mexico sowie in Asien. Im Geschäftsjahr 2001/2002 erzielten die weltweit rund 14.700 Mitarbeiter einen Umsatz von knapp 2,3 Milliarden Euro. Weitere Informationen finden Sie unter www.zeiss.de .




