(openPR) Die dritte China ALD Konferenz , welche vom 16-17. Oktober 2014 in Shanghai stattfand, bot eine gute Gelegenheit zur Präsentation des neuen SENTECH ALD Real Time Monitors. Zum ersten Mal wurde der ALD Real Time Monitor dabei dem asiatischen Publikum vorgestellt. Dieses durch SENTECH patentierte Produkt ermöglicht die Überwachung des Absorptions- und Desorptionsprozesses auf der Oberfläche des Substrates während des ALD Prozesses. Der ALD Real Time Monitor ermöglicht weiterhin eine schnelle und effiziente Optimierung der ALD Prozessparameter, denn er misst die Schichtdicke optisch, sub-Angström-genau und mit 40ms Zeitauflösung.
„Mit dem Real Time Monitor kann der ALD Prozess kostengünstiger und zeitsparender gestaltet werden, als je zuvor.“ Unterstreicht Dr. Gargouri, ALD Spezialist bei SENTECH. „Mit diesem innovativen Produkt zeigt SENTECH erneut, dass unser Know How in Sachen Messtechnik unter den vielen Anbietern hervorsticht.“ Für Fragen zum Thema SENTECH ALD, kontaktieren Sie uns!
Presseinformation
SENTECH auf der ALD China 2014
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Schwarzschildstr. 2, 12489 Berlin, Germany
Phone: +49 30 63 92 55 20, Fax: +49 30 63 92 55 22,
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Über das Unternehmen
SENTECH Instruments gehört zu den führenden Anbietern von Plasma-Prozesstechnologie Anlagen zum Beschichten mittels ALD und PECVD, sowie Ätzen. Weiter offeriert SENTECH Ellipsometer zur Dünnschichtmesstechnik.
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