openPR bei Google bevorzugen.(openPR) ZESTRON, der international führende Hersteller von Reinigungsmedien für den SMT- und Semicon Backend Bereich, ist in 2012 erstmals als Aussteller auf der PCIM vertreten (Halle 11, Stand 419). Im Fokus steht hierbei das Thema der Reinigung von Power Modulen.
Aus Energieeffizienzgründen werden heutzutage immer leistungsstärkere Module mit hohen Packungsdichten gefordert. In diesen hochsensiblen Anwendungen werden auch nur geringste, auf der Oberfläche verbleibende Verunreinigungen entsprechend immer kritischer.
Um hier höchste Reinheit und Prozesssicherheit zu garantieren, müssen diese Verunreinigungen in einem optimal abgestimmten Reinigungsprozess von den Substrat- und Chipoberflächen entfernt werden. ZESTRON präsentiert dazu auf der PCIM die neueste Generation von Reinigern, die speziell für Power Module entwickelt wurden.
ZESTRON hat in diesem Bereich bereits einige Prozesse realisiert und unterstützt Sie gerne bei der Auswahl oder Optimierung Ihrer Reinigungsanwendungen. Besuchen Sie uns auf der PCIM (Halle 11, Stand 419) und erfahren Sie mehr!
Presseinformation
ZESTRON’s Messehighlight PCIM 2012 – Reiniger neuester Generation für Power Module
Diese Pressemeldung wurde auf openPR veröffentlicht.
Verantwortlich für diese Pressemeldung:ZESTRON Europe
... ein Unternehmensbereich der Dr. O.K. Wack Chemie GmbH
Bunsenstr. 6
85053 Ingolstadt
Pressekontakt:
Ramona Augenstein
Tel.: 0841 635-171
Fax: 0841 635-40
Email:
... ein Unternehmensbereich der Dr. O.K. Wack Chemie GmbH
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Über das Unternehmen
ZESTRON ist einer der international führenden Hersteller von Reinigungsmedien für den SMT- und Semicon Backend Bereich, sowie für Highend-Anwendungen in der Teilereinigung. ZESTRON versteht sich jedoch primär als Ihr Architekt von zuverlässigen Reinigungsprozessen für die Elektronik- und Metallteilereinigung.
Seit der Gründung im Jahre 1975 hat sich ZESTRON zur Aufgabe gesetzt, weltweit seinen Kunden innovative Produkte und kundenspezifische Lösungen mit bestmöglicher Unterstützung anzubieten. Unser Ziel ist es, für Sie die optimale Lösung für Ihre spezifische Anwendung zu entwickeln.
Um den optimalen Reinigungsprozess zu finden, stehen Ihnen unsere Standorte in den USA, Europa, Nord- und Südasien für Reinigungsversuche zur vollen Verfügung. An jedem Standort befindet sich ein voll ausgestattetes Technisches und Analytisches Zentrum mit insgesamt mehr als 35 verschiedenen Reinigungsanlagen. Ein Team von erfahrenen Prozessingenieuren begleitet Sie persönlich von den ersten Reinigungsversuchen bis zur Inbetriebnahme Ihres Reinigungsprozesses und darüber hinaus.
Seit der Gründung im Jahre 1975 hat sich ZESTRON zur Aufgabe gesetzt, weltweit seinen Kunden innovative Produkte und kundenspezifische Lösungen mit bestmöglicher Unterstützung anzubieten. Unser Ziel ist es, für Sie die optimale Lösung für Ihre spezifische Anwendung zu entwickeln.
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