(openPR) Aus Energieeffizienzgründen werden heutzutage immer leistungsstärkere Module mit hohen Packungsdichten gefordert. In diesen hochsensiblen Anwendungen werden auch nur geringste, auf der Oberfläche verbleibende Verunreinigungen entsprechend immer kritischer.
Um hier höchste Reinheit und Prozesssicherheit zu garantieren, müssen diese Verunreinigungen in einem optimal abgestimmten Reinigungsprozess von den Substrat- und Chipoberflächen entfernt werden. ZESTRON entwickelte daher speziell für die Reinigung von Powermodulen das Reinigungsmedium VIGON® PM 105.
VIGON® PM 105 ist ein wasserbasierender, pH-neutraler Reiniger, der insbesondere für den Einsatz in Inlineanlagen empfohlen wird. Basierend auf der MPC®-Technology entfernt VIGON® PM 105 zuverlässig Flussmittelrückstände von Power-Modulen und Discrete Devices nach dem Die-attach bzw. der Kühlkörperlötung. Es sorgt für optimale Oberflächenreinheit für nachfolgende Prozesse wie Drahtbonden, Beschichten oder Vergießen.
ZESTRON hat in diesem Bereich bereits einige Prozesse realisiert und unterstützt Sie gerne bei der Auswahl oder Optimierung Ihrer Reinigungsanwendungen. Erfahren Sie mehr über VIGON® PM 105 und kontaktieren Sie ZESTRON’s Anwendungstechnik: .
Diese Pressemeldung wurde auf openPR veröffentlicht.
Verantwortlich für diese Pressemeldung:
ZESTRON Europe
... ein Unternehmensbereich der Dr. O.K. Wack Chemie GmbH
Bunsenstr. 6
85053 Ingolstadt
ZESTRON ist einer der international führenden Hersteller von Reinigungsmedien für den SMT- und Semicon Backend Bereich, sowie für Highend-Anwendungen in der Teilereinigung. ZESTRON versteht sich jedoch primär als Ihr Architekt von zuverlässigen Reinigungsprozessen für die Elektronik- und Metallteilereinigung.
Seit der Gründung im Jahre 1975 hat sich ZESTRON zur Aufgabe gesetzt, weltweit seinen Kunden innovative Produkte und kundenspezifische Lösungen mit bestmöglicher Unterstützung anzubieten. Unser Ziel ist es, für Sie die optimale Lösung für Ihre spezifische Anwendung zu entwickeln.
Um den optimalen Reinigungsprozess zu finden, stehen Ihnen unsere Standorte in den USA, Europa, Nord- und Südasien für Reinigungsversuche zur vollen Verfügung. An jedem Standort befindet sich ein voll ausgestattetes Technisches und Analytisches Zentrum mit insgesamt mehr als 35 verschiedenen Reinigungsanlagen. Ein Team von erfahrenen Prozessingenieuren begleitet Sie persönlich von den ersten Reinigungsversuchen bis zur Inbetriebnahme Ihres Reinigungsprozesses und darüber hinaus.
News-ID: 678910
132
Kostenlose Online PR für alle
Jetzt Ihren Pressetext mit einem Klick auf openPR veröffentlichen
Pressebericht „VIGON® PM 105 – Neuester pH-neutraler Reiniger zur Flussmittelentfernung bei Powermodulen“ bearbeiten oder mit dem "Super-PR-Sparpaket" stark hervorheben, zielgerichtet an Journalisten & Top50 Online-Portale verbreiten:
Disclaimer: Für den obigen Pressetext inkl. etwaiger Bilder/ Videos ist ausschließlich der im Text angegebene Kontakt verantwortlich. Der Webseitenanbieter distanziert sich ausdrücklich von den Inhalten Dritter und macht sich diese nicht zu eigen. Wenn Sie die obigen Informationen redaktionell nutzen möchten, so wenden Sie sich bitte an den obigen Pressekontakt. Bei einer Veröffentlichung bitten wir um ein Belegexemplar oder Quellenennung der URL.
Für Unternehmen, die auf der Suche nach einem neuen Reinigungsprozess für ihre Baugruppen, DCB´s, Leistungselektronik oder SMT-Schablonen sind, bietet ZESTRON eine in der Industrie einzigartige Dienstleistung an.
In ZESTRON´s Technischen Zentrum in Ingolstadt können interessierte Elektronikhersteller
verschiedene Typen von Reinigungsanlagen unterschiedlicher Anlagenhersteller testen und vergleichen. Die erfahrenen ZESTRON-Ingenieure ermitteln innerhalb eines Tages die passende Reinigungsanlage sowie einen darauf optimal abgestimmten Reiniger…
Der Prozessingenieur Herr Freddy Gilbert verstärkt die Abteilung Anwendungstechnik von ZESTRON, dem führenden Anbieter von Reinigungsmedien, Reinigungsprozesslösungen und Analytik-Dienstleistungen für die Elektronikindustrie.
Freddy Gilbert ist als Prozessingenieur bei ZESTRON für Kunden aus Osteuropa, der Türkei, Israel sowie Südafrika zuständig. Hier berät er diese im Bereich der Inbetriebnahme, Überwachung und Optimierung von Reinigungsprozessen. Für die ZESTRON Academy führt er Technologie Coachings und Trainings zu den Themen Risikobewe…
… für diese Anwendungsbereiche mit zwei elementaren Eigenschaften. Zum einen bietet VIGON® PE 180 bei der Reinigung von Leistungselektronik, wie z. B. Powermodulen, hervorragende Leistung bei der Entoxidation von Kupferoberflächen. Der Reiniger erzielt fleckenfreie, aktivierte Kupferoberflächen und schafft damit optimale Voraussetzungen für nachfolgende …
… sowie der dazu optimal abgestimmten Reinigungschemie bereit.
Weitere Messehighlights sind der pH-neutrale Baugruppenreiniger VIGON® N 640, der besonders gut zur Entfernung neuester Flussmittel in spezifischen Batch-Anlagen geeignet ist, sowie das einphasige HYDRON® SC 300 für die Schablonenreinigung, das schlierenfrei trocknet und selbst SMT-Kleber …
… (Halle A 2, Stand 461).
Im Fokus steht dabei der neue Baugruppenreiniger VIGON® N 600. Nachdem Zestron 2009 den weltweit ersten, pH-neutralen Reiniger zur Flussmittelentfernung von Baugruppen vorstellte, wurde in diesem Bereich intensiv weiterentwickelt. Der neue Reiniger VIGON N 600 überzeugt durch seine außergewöhnlich gute Verträglichkeit mit sensitiven …
… Technik sowie der dazu optimal abgestimmten Reinigungschemie bereit.
Weitere Messehighlights sind der pH-neutrale Baugruppenreiniger VIGON® N 640, der besonders gut zur Entfernung neuester Flussmittel in spezifischen Batch-Anlagen geeignet ist, sowie das einphasige HYDRON® SC 300 für die Schablonenreinigung, das schlierenfrei trocknet und selbst SMT-Kleber …
In modernen Reinigungsprozessen erweist sich die Verwendung von Reinigerkonzentraten als zeitgemäße und kostengünstige Lösung. Durch Verschleppung oder Verdünnung kann sich die eingestellte Reinigerkonzentration jedoch verändern, was eine regelmäßige Überprüfung durch den Anwender notwendig macht. Der neu entwickelte ZESTRON® Bath Analyzer ist hierfür …
… N 501 als Messehighlight auf der diesjährigen Productronica (Halle A 2, Stand 461).
VIGON® N 501 ist der weltweit erste pH-neutrale Reiniger zur Flussmittelentfernung von Baugruppen und aufgrund seiner Neutralität besonders materialverträglich mit sensitiven Materialien der SMT Produktion, wie beispielsweise Aluminium, Kupfer, Messing, Nickel, Kunststoffen …
Der wasserbasierende Reiniger VIGON® RC 303 wurde speziell zur manuellen Entfernung von hartnäckigen Rückständen in Reflowöfen und Wellenlötanlagen entwickelt. Zuverlässig werden Ofenteile, Lötrahmen und Kondensatfallen von Flussmittelkondensaten und Ausgasungsrückstände aus Leiterplatten befreit.
Die Weiterentwicklung des Reinigers VIGON® RC 101 überzeugt …
Auf der diesjährigen SMT Messe steht für ZESTRON ganz deutlich die bewährte persönliche Betreuung seiner Kunden im Vordergrund. Gemäß dem Motto „Wir unterstützen Sie: Reiniger, Anlage, Analytik“ steht dem Fachpublikum ein komplettes Team von erfahrenen Prozessingenieuren zur Verfügung, das rund um das Thema Elektronikreinigung Rede und Antwort steht. …
ZESTRON, führender Hersteller von Reinigungsmedien in der Elektronikfertigung, stellt den neuen Baugruppenreiniger VIGON® A 201 auf der diesjährigen SMT Messe vor.
Der MPC® Reiniger verfügt über eine hervorragende Spaltgängigkeit, wodurch sich Flussmittelrückstände unter Komponenten mit geringsten Abständen, wie z.B. Micro BGA, FlipChips und 01005 Komponenten …
… Reinigungslösungen für die Elektronikindustrie, ist ein neues Anwendervideo zur manuellen Reflowofenreinigung verfügbar. In dem Video wird die Anwendung des wasserbasierenden Reinigers VIGON® RC 303 ausführlich erklärt.
Dieser Reiniger wurde speziell zur manuellen Entfernung von hartnäckigen Rückständen in Reflowöfen und Wellenlötanlagen entwickelt. …
Sie lesen gerade: VIGON® PM 105 – Neuester pH-neutraler Reiniger zur Flussmittelentfernung bei Powermodulen