(openPR) U m i c o r e Electroplatíng bietet innovative Schichtsysteme auf EM-Basis für besonders korrosionsbeständige elektrische Kontaktsysteme an, siehe beispielsweise
http://www.openpr.de/news/927426.html [V1],
http://www.openpr.de/news/936515.html [V2],
https://www.openpr.de/news/1012763.html [V3]
Die bestehenden Reinplatin und PtRu-Verfahren werden dabei aufgrund ausgezeichneter Eigenschaften bezüglich Korrosionsbeständigkeit, Abrieb, Verschleiß und Härte bevorzugt eingesetzt. Siehe die Verweise oben. Gegenüber den ebenfalls sehr gut geeigneten rhodiumbasierten End- oder Zwischenschichten (z.B. RhRu) ist der Edelmetallpreis der platinbasierten Schichten aktuell deutlich geringer, was sie zum Einsatz prädestiniert. Da für die Gesamtkosten auch die Prozesskosten und damit auch die Geschwindigkeit der Abscheidung und weitere Elektrolyt-Leistungsdaten, wie Schichtdickenverteilung, Legierungsstabilität bei PtRu, Lebensdauer, Handhabung, etc. eine wichtige Rolle spielen, wurden die bekannten sauren Pt- und PtRu-Prozesse die seither auf der Basis üblicher Säuren, wie Schwefelsäure, Phosphorsäure oder Amidosulfonsäure betrieben werden, durch den Einsatz von Metallquellen auf der Basis von Methansulfonsäure weiterentwickelt. Die sauren Komplexlösungen mit Methansulfonsäure werden über mehrstufige Verfahren aus Platin(II)-Verbindungen wie z.B. Diaminodinitroplatin(II) oder Alkali- bzw. Ammoniumsalzen des Tetranitroplatin(II) hergestellt. Analoges gilt für die Ruhteniumverbindungen mit Methansulfonsäure, welche beispielsweise aus Ru-Halogenid, oder Ruhthenium-nitrido-halogeno-Komplexen über deren Hydroxide hergestellt werden können. Da Verunreinigungen aus dem Herstellungsprozess zu Störungen im Elektrolyten führen können, ist die Reinheit der so erhaltenen Verbindungen ein wichtiger Aspekt. Verunreinigungen müssen daher sorgfältig entfernt oder deutlich reduziert werden. Die Metallkomplexe werden dann üblicherweise in Form eines flüssigen Konzentrats bereitgestellt und eingesetzt.
Die aus diesen MSA-haltigen Komplexen hergestellten Elektrolyte zeigen dabei eine beeindruckende Leistungsfähigkeit. Die Elektrolyte weisen beispielhaft folgende Zusammensetzung auf:
0,1 – 10 g/l Pt als Pt-Komplex
0 – 10 g/L Ru, als Ru-Komplex
0,1 – 250 g/L Methansulfonsäure (ansteigend im Verlauf der Benutzung)
0 – 150 g/L Leitsalze (z.B. Alkali- oder Ammoniumsalze der Methansulfonsäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure, etc.)
Weitere Zusätze, z.B. Tenside (anionische, kationische, nichtionische), Additive zur Verbesserung spezieller Eigenschaften (Kornstruktur, Poren, Korrosion, Abrieb, Härte,…) sind möglich und werden bei Bedarf entsperchend eingesetzt..
Durch Optimierung der Konzentrationen an Metallen, Leitsalzen und Säuren, sowie der Abscheidungsparameter können erhöhte Abscheidungsraten erzielt und damit die Abscheidungsleistung verbessert werden. Bei Platin-Rutrhenium-Legierungselektrolyten werden besonders legierungsstabile Abscheidungen möglich, die bei geeigneter Zusammensetzung geringere Rissneigung und optisch einwandfreie, korrosions- und verschleißbeständige Überzüge abscheiden. Die Herstellung dieser maßgeschneiderter Elektrolyte ist dabei durch den sehr breiten Bereich zur gemeinsamen Abscheidung der Legierungspartner einfach möglich. Von sehr geringen Ru-Anteilen (<0,1 %) bis zu großen Anteilen (80+ %) sind alle Zusammensetzungen auch praktisch einstellbar.
Mit diesen neuen Verfahren setzt die Umicore Galvanotechnik erneut Maßstäbe bei der Herstellung technisch und dekorativer anspruchsvoller Pt- und PtRu-Prozesse.
