(openPR) ZESTRON freut sich, die Eröffnung des ersten Firmensitzes und des weltweit sechsten technischen Zentrums in Japan bekanntzugeben. ZESTRON Japan wurde offiziell im Dezember 2012 in Kanagawa eröffnet und stellt somit nach Shanghai, Shenzhen und Kulim, das nun vierte technische Zentrum in Asien dar. Auch für Japan bietet ZESTRON seinen Kunden einen umfassenden technischen Support vor Ort. Zusätzlich bieten die wasserbasierenden MPC Reiniger von ZESTRON, im Vergleich zu den derzeit eingesetzten Alkoholen, deutliche Vorteile hinsichtlich der Reinigungsleistung, dem Arbeitsschutz und der Umweltfreundlichkeit.
Herr Daido Sawairi, Geschäftsführer ZESTRON Japan, ist hauptverantwortlich für den neuen Standort und leitet den Vertrieb, sowie das Team der lokalen Anwendungstechnik. Er verfügt zudem über 20 Jahre Erfahrung im japanischen, sowie in der internationalen Elektronikindustrie und hat dort bereits viele Führungspositionen ausgeübt.
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ZESTRON Europe
... ein Unternehmensbereich der Dr. O.K. Wack Chemie GmbH
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Über das Unternehmen
ZESTRON ist einer der international führenden Hersteller von Reinigungsmedien für den SMT- und Semicon Backend Bereich, sowie für Highend-Anwendungen in der Teilereinigung. ZESTRON versteht sich jedoch primär als Ihr Architekt von zuverlässigen Reinigungsprozessen für die Elektronik- und Metallteilereinigung.
Seit der Gründung im Jahre 1975 hat sich ZESTRON zur Aufgabe gesetzt, weltweit seinen Kunden innovative Produkte und kundenspezifische Lösungen mit bestmöglicher Unterstützung anzubieten. Unser Ziel ist es, für Sie die optimale Lösung für Ihre spezifische Anwendung zu entwickeln.
Um den optimalen Reinigungsprozess zu finden, stehen Ihnen unsere Standorte in den USA, Europa, Nord- und Südasien für Reinigungsversuche zur vollen Verfügung. An jedem Standort befindet sich ein voll ausgestattetes Technisches und Analytisches Zentrum mit insgesamt mehr als 35 verschiedenen Reinigungsanlagen. Ein Team von erfahrenen Prozessingenieuren begleitet Sie persönlich von den ersten Reinigungsversuchen bis zur Inbetriebnahme Ihres Reinigungsprozesses und darüber hinaus.